Wciąż słyszymy, że opracowywanie nowych procesów litograficznych na tym poziomie rozwoju przemysłu IT jest coraz bardziej kapitałochłonne, gdyż coraz więcej kosztuje znalezienie rozwiązań pojawiających się problemów. W takim stanie rzeczy nie dziwi zupełnie, że producenci układów półprzewodnikowych coraz poważniejsze fundusze muszą przeznaczać na swoje działy R&D. W tym roku na ten cel NTSC ma zamiar wydać 1,3 mld dolarów, co ma korporacji pozwolić na skuteczną rywalizację z Intelem i Samsungiem.
Tegoroczny dudżet działu R&D tajwańskiej korporacji pochłonie 8% jej dochodów, szacowanych wstępnie na 17,2 mld $. Planowana kwota ma zostać przeznaczona przede wszystkim na dopracowanie procesu technologicznego 28 nm,i wstępne prace nad procesem 20 nm. W dalszej perspektywie planowane jest wdrożenie procesu 3D-IC oraz rozpoczęcie prac nad układami 14-nanometrowymi, które mają być dopracowane i skomercjalizowane w 2014 roku.
Plany inwestycyjne korporacji zależą przede wszystkim od tego, czy sprawdzą się prognozy finansowe odnośnie przychodów. Wszystko wskazuje jednak na to, że w tej materii wszystko jest w porządku - ostatnie dane za kwiecień bieżącego roku wskazują na wzrost zysków o 9,3% względem marca oraz o 10,4% względem kwietnia 2011 roku. Wszystko wskazuje na to, ze ta pozytywna tendencja wzrostowa utrzyma się w kolejnych miesiącach.
Źródło: CDRinfo.com